2022電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)現(xiàn)狀及未來趨勢分析

國內(nèi)電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)前景及現(xiàn)狀發(fā)展如何?隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設(shè)備，在這兩類設(shè)備中，電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)在性能和數(shù)量上均占優(yōu)勢。

根據(jù)中研普華研究院《2022年全球與中國電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場深度研究報告》分析：

電子束曝光指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術(shù)的延伸應(yīng)用。光刻技術(shù)的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越短，光刻能夠達(dá)到的精度越高。根據(jù)德布羅意的物質(zhì)波理論，電子是一種波長極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達(dá)到納米量級，從而為制作納米線提供了很有用的工具。電子束曝光需要的時間長是它的一個主要缺點。為了解決這個問題，納米壓印術(shù)應(yīng)運而生。

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)現(xiàn)狀

電子束光刻系統(tǒng)(EBL)的消費地區(qū)為北美、歐洲、亞太等地區(qū)。亞太地區(qū)在2019年占據(jù)了最大的收入市場份額，約為48%。其次是歐洲和北美，而其他地區(qū)的市場規(guī)模較小。

2019年，全球電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場規(guī)模達(dá)到了11億元，預(yù)計2026年將達(dá)到14億元，年復(fù)合增長率(CAGR)為7.3%。

近年來，中國電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量和產(chǎn)值都呈現(xiàn)出較快的增長態(tài)勢。據(jù)統(tǒng)計，2021年，中國電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為864臺，同比增長12.06%;產(chǎn)值約為6.82億美元，同比增長18.40%。

據(jù)統(tǒng)計，2021年歐洲電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為1364臺，較2020年增長了6.98%;產(chǎn)值約為14.14億美元，較2020年增長了12.67%。日本電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為791臺，較2020年增長了2.06%;產(chǎn)值約為6.87億美元，較2020年增長了3.0%。

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)應(yīng)用

在最近的一項研究中，昆士蘭科技大學(xué)的研究團(tuán)隊首次將電子束曝光(EBL)技術(shù)應(yīng)用于生物納米結(jié)構(gòu)的仿生制造，并取得了重要研究成果。昆士蘭科技大學(xué)Prasad KDV Yarlagadda及其研究團(tuán)隊對蟬翼的殺菌和細(xì)胞相容特性進(jìn)行了系統(tǒng)研究，并首次使用電子束曝光技術(shù)(EBL)進(jìn)行蟬翼結(jié)構(gòu)的仿生制造，加工出類似的納米錐陣列結(jié)構(gòu)，經(jīng)研究發(fā)現(xiàn)，其同樣具有殺菌和生物相容性。

想了解更多關(guān)于行業(yè)專業(yè)數(shù)據(jù)分析，請點擊查看中研普華研究院出版的報告《2022年全球與中國電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場深度研究報告》。

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